MOCVD

　　金屬有機物化學(xué)氣相淀積(Metal-OrganicChemicalVaporDeposition，簡稱MOCVD)，1968年由美國洛克威爾公司提出來的一項制備化合物半導(dǎo)體單品薄膜的新技術(shù)。該設(shè)備集精密機械、半導(dǎo)體材料、真空電子、流體力學(xué)、光學(xué)、化學(xué)、計算機多學(xué)科為一體，是一種自動化程度高、價格昂貴、技術(shù)集成度高的尖端光電子專用設(shè)備，主要用于GaN(氮化鎵)系半導(dǎo)體材料的外延生長和藍色、綠色或紫外發(fā)光二極管芯片的制造，也是光電子行業(yè)最有發(fā)展前途的專用設(shè)備之一。

　　第一章 外延在光電產(chǎn)業(yè)角色

　　近十幾年來為了開發(fā)藍色高亮度發(fā)光二極管，世界各地相關(guān)研究的人員無不全力投入。而商業(yè)化的產(chǎn)品如藍光及綠光發(fā)光二級管LED及激光二級管LD的應(yīng)用無不說明了Ⅲ-Ⅴ族元素所蘊藏的潛能，表1-1　為目前商品化LED之材料及其外延技術(shù)，紅色及綠色發(fā)光二極管之外延技術(shù)大多為液相外延成長法為主，而黃色、橙色發(fā)光二極管目前仍以氣相外延成長法成長磷砷化鎵GaAsP …………