羅姆首次實(shí)現(xiàn)SiC-SBD與SiC-MOSFET的一體化封裝
摘要: 本產(chǎn)品于世界首次※成功實(shí)現(xiàn)SiC-SBD與SiC-MOSFET的一體化封裝。內(nèi)部二極管的正向電壓(VF)降低70%以上,實(shí)現(xiàn)更低損耗的同時(shí)還可減少部件個(gè)數(shù)。生產(chǎn)基地在ROHM Apollo Co., Ltd.(日本福岡縣),從6月份開(kāi)始出售樣品,從7月份開(kāi)始陸續(xù)量產(chǎn)。
3) 正向電壓降低70%以上,減少了損耗和部件個(gè)數(shù)
SiC-MOSFET的體二極管,在SiC物質(zhì)特性的原理上決定了其開(kāi)啟電壓較大,高達(dá)2.5V以上,常常成為逆變器工作時(shí)的損耗。“SCH2080KE”集SiC-SBD與SiC-MOSFET于同一封裝內(nèi),大大降低了正向電壓。不僅損耗更低,還可減少部件個(gè)數(shù)。
4) 無(wú)尾電流,可進(jìn)行低損耗開(kāi)關(guān)
由于不會(huì)產(chǎn)生Si-IGBT中常見(jiàn)的尾電流,因此關(guān)斷時(shí)的開(kāi)關(guān)損耗可減少90%,有助于設(shè)備更加節(jié)能。另外,達(dá)到了Si-IGBT無(wú)法達(dá)到的50kHz以上的開(kāi)關(guān)頻率,因此,可實(shí)現(xiàn)外圍設(shè)備的小型化、輕量化。
【術(shù)語(yǔ)解說(shuō)】
體二極管(Body diode)
MOSFET的結(jié)構(gòu)中,寄生于內(nèi)部而形成的二極管。逆變器工作時(shí),電流經(jīng)過(guò)此二極管,因此要求具備低VF值和高速恢復(fù)特性。
尾電流(Tail current)
IGBT中的關(guān)斷時(shí)流過(guò)的瞬態(tài)電流。因空穴注入的積累時(shí)間而產(chǎn)生。此期間內(nèi)需要較高的漏極電壓,因此產(chǎn)生較大的開(kāi)關(guān)損耗。
IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor:絕緣柵雙極晶體管)
不僅電子,不同的空穴,電流流經(jīng)而實(shí)現(xiàn)低導(dǎo)通電阻的功率晶體管。因空穴注入的積累時(shí)間無(wú)法高速動(dòng)作,具有開(kāi)關(guān)損耗較大的問(wèn)題。
正向電壓(VF?。篎orward Voltage)
正向電流流經(jīng)時(shí)二極管產(chǎn)生的電壓值。數(shù)值越小耗電量越小。
導(dǎo)通電阻
功率元件工作時(shí)的電阻值。這是影響功率MOSFET性能的最重要的參數(shù),數(shù)值越小性能越高。
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