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羅姆首次實現SiC-SBD與SiC-MOSFET的一體化封裝

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2012-06-21 作者:LEDth 來源:新世紀LED網 瀏覽量: 網友評論: 0

摘要: 本產品于世界首次※成功實現SiC-SBD與SiC-MOSFET的一體化封裝。內部二極管的正向電壓(VF)降低70%以上,實現更低損耗的同時還可減少部件個數。生產基地在ROHM Apollo Co., Ltd.(日本福岡縣),從6月份開始出售樣品,從7月份開始陸續(xù)量產。

  日本知名半導體制造商羅姆(總部位于日本京都)面向工業(yè)設備和太陽能發(fā)電功率調節(jié)器等的逆變器、轉換器,開發(fā)出耐壓高達1200V的第2代SiC(Silicon carbide:碳化硅)MOSFET“SCH2080KE”。此產品損耗低,可靠性高,在各種應用中非常有助于設備實現更低功耗和小型化。

  本產品于世界首次成功實現SiC-SBD與SiC-MOSFET的一體化封裝。內部二極管的正向電壓(VF)降低70%以上,實現更低損耗的同時還可減少部件個數。

  生產基地在ROHM Apollo Co., Ltd.(日本福岡縣),從6月份開始出售樣品,從7月份開始陸續(xù)量產。

  現在,在1200V級別的逆變器和轉變器中一般使用Si-IGBT,但尾電流和外置FRD的恢復導致的功率轉換損耗較大,因此,更低損耗、可高頻動作的SiC-MOSFET的開發(fā)備受期待。但是,傳統的SiC-MOSFET,體二極管通電導致的特性劣化(導通電阻和正向電壓的上升/耐性劣化)和柵氧化膜故障等可靠性方面的課題較多,之前無法實現真正的全面導入。

  此次,羅姆通過改善晶體缺陷相關工藝和元件構造,成功地攻克了包括體二極管在內的可靠性方面的所有課題。而且,與傳統產品相比,單位面積的導通電阻降低了約30%,實現了芯片尺寸的小型化。

  另外,通過獨創(chuàng)的安裝技術,還成功將傳統上需要外置的SiC-SBD一體化封裝,使SiC-MOSFET的體二極管長久以來的課題—降低正向電壓成為可能。

  由此,與一般的逆變器中所使用的Si-IGBT相比,工作時的損耗降低了70%以上,實現了更低損耗的同時,還實現了50kHz以上的更高頻率,而且有助于外圍部件的小型化。

  另外,此次還同時開發(fā)了與SiC-SBD非同一封裝的型號SiC-MOSFET“SCT2080KE”,提供滿足不同電路構成和客戶需求的產品。兩種產品將在6月19日(周二)~21日(周四)于上海世博展覽館舉行的聚集電力電子、智能運動、電力特性等最新技術的專業(yè)類展會“PCIM Asia 2012”的羅姆展臺展出。歡迎蒞臨現場參觀。

  【特點】

  1) SiC-MOSFET與SiC-SBD一體化封裝

  成功實現“SCH2080KE”與傳統上需要外置的SiC-SBD的一體化封裝,降低了正向電壓??蓽p少部件個數,而且有助于進一步節(jié)省空間。產品陣容中還包括傳統結構的“SCT2080KE”,可滿足客戶的多種需求。

  2) 無開啟電壓,具備卓越的電流電壓特性

  通過優(yōu)化工藝和元件構造,與第1代產品相比,單位面積的導通電阻降低約30%。不存在一般使用的Si-IGBT長久以來所存在的開啟電壓,因此即使在低負載運轉時損耗也很低。

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