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Nitride開發(fā)首款用于半導體制程曝光系統(tǒng)的UV LED

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2020-06-01 作者: 來源:LEDinside編譯 瀏覽量: 網(wǎng)友評論: 0
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摘要: 據(jù)外媒報道,日本Nitride Semiconductors已開發(fā)出一款波長為365nm的UV LED芯片,并宣稱是首個用于半導體和PCB制程曝光系統(tǒng)的紫外光源。

  據(jù)外媒報道,日本Nitride Semiconductors已開發(fā)出一款波長為365nm的UV LED芯片,并宣稱是首個用于半導體和PCB制程曝光系統(tǒng)的紫外光源。

  據(jù)悉,用于半導體制程的曝光系統(tǒng)目前仍使用紫外汞燈,存在待機時間長、工作壽命短、紫外光照度穩(wěn)定性低、開關(guān)控制不便等功能性限制問題。另外,由于環(huán)境污染問題,預計《水俁公約》的實施將推動LED光源加快替代含汞光源。

  Nitride Semiconductors表示,波長為365nm的新型NS365L-9RXT UV LED芯片具有效率高、節(jié)能且壽命長等特點,在正向電流If為3A,正向電壓Vf為4.6V的條件下,紫外輸出功率為3.2W。同時,這款UV LED結(jié)構(gòu)非常緊湊,尺寸為9mm(長) x 9mm(寬) x 8.5mm(高),因此安裝密度更高。

  新型UV LED還具有適用于半導體曝光的窄發(fā)光角。通常情況下,半導體制程為實現(xiàn)精準曝光,需要使用平行光。然而,由于UV LED光源發(fā)光角比較寬(約120°),用于曝光所獲的光量往往不足。因此,通過結(jié)合深度反射鏡與高透光率透鏡,該公司實現(xiàn)了小于或等于15°的發(fā)光角。這表明UV LED有可能直接替換傳統(tǒng)曝光系統(tǒng)所用的UV光源,無需購買新的UV LED曝光系統(tǒng)。

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